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清洗设备 Cleaning Tool



作者:尊龙下载    发布时间:2020-07-10 23:28


  清洗工艺主要用于去除芯片制造中上一道工序所遗留的超微细颗粒污染物、金属残留、有机物残留物,去除光阻掩膜或残留,也可根据需要进行硅氧化膜、氮化硅或金属等薄膜材料的湿法腐蚀,为下一步工序准备好良好的表面条件。清洗一般采用化学和物理作用力相结合的方法实现,在清洗时既要有很好的腐蚀选择性,高效的去除超微细颗粒物及各种残留物的能力,又不能对晶片表面的精细图形结构造成损伤。湿法腐蚀速率,腐蚀均匀性,晶圆正、反面交叉污染的控制,清洗效率等都是至关重要的工艺要素。北方华创可提供多种类型的单片清洗设备和槽式清洗设备,已广泛应用于集成电路、半导体照明、先进封装、微机电系统、电力电子、化合物和功率器件等领域。

  12英寸单片清洗机广泛应用在90nm-28nm 集成电路、先进封装、微机电系统领域。

  12英寸堆叠式单片清洗机采用三层工艺腔室、多层晶圆传输系统、各工艺腔室独立的工艺体系等技术。

  石英舟/管清洗机,可用于12英寸及以下尺寸的扩散、外延等设备的石英舟/管、碳化硅管的清洗。

  石英舟/管清洗机,可用于12英寸及以下尺寸的扩散、外延等设备的石英舟/管、碳化硅管的清洗。

  槽式黑硅制绒清洗机应用于多晶硅电池黑硅制绒,提高电池转换效率,降低电池成本。

  12英寸单片清洗机广泛应用在90nm-28nm 集成电路、先进封装、微机电系统领域。

  石英舟/管清洗机,可用于12英寸及以下尺寸的扩散、外延等设备的石英舟/管、碳化硅管的清洗。

  12英寸单片清洗机广泛应用在90nm-28nm 集成电路、先进封装、微机电系统领域。

  能对应G4.5~G8.5液晶面板产线的Panel规格,特殊预洗设计,有效降低玻璃面板破损。

产品清洗设备




 
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